金属及半导体材料的生产经常会用到石墨粉坩埚，为了让金属和半导体材料达到一定的纯度，减少杂质的数量，要求使用含碳量很高，杂质很低的石墨粉。这时在加工时就需要对石墨粉进行杂质去除。
生产石墨粉时，从原材料的选择上就应该开始严格的控制杂质的含量，要选择灰份低的原材料，并在加工石墨粉过程中防止增加杂质。很多杂质元素的氧化物在高温的情况下在不断分解和蒸发，从而保证生产出来的石墨粉的纯度。
在生产一般石墨粉化产品时，炉芯温度达到2300℃左右，残留杂质含量为0.1%—0.3%左右。如果将炉芯温度提高到2500-3000℃，那残留杂质含量将会大大减少。生产石墨粉产品时，电阻料及保温料通常使用低灰分的石油焦。
为了防止鳞片石墨高温下氧化产生的腐蚀破坏，所以要找到一种材料给高温材料穿上一层外衣，能有效保护鳞片石墨高温不发生氧化现象。要找到的这种鳞片石墨防氧化的外衣首先要耐高温、致密性好，防腐性能佳、硬度高等一些特性。
1、采用蒸汽压小于0.1333MPa(1650℃)，并且具有好综合性能的材料。
2、选择满足性能要求的玻璃相物质作为自封闭材料，使之在工作温度内成为裂纹封闭材料。
3、根据与氧反应的标准自由能随温度变化函数，在炼钢温度(1650-1750℃)，选择与氧的亲和力比碳-氧亲和力大的材料，优先夺取氧，使自身氧化，对鳞片石墨起保护作用。氧化后生成新相体积比原相大，有助于堵塞氧气向内扩散通道，形成放氧化屏障。
4、在工作温度下，可大量吸附钢水中AL2O3,SiO2,Fe2O3等夹杂物，与自身反应烧结，使来自钢水中的各种夹杂物逐渐进入涂层
以上信息由专业从事细微鳞片石墨的新成石墨于2024/4/27 8:34:30发布
转载请注明来源：http://yichang.mf1288.com/ycxcsm-2742674761.html
